安平低溫等離子UV光解一體機(jī) 廢氣處理設(shè)備廠家

安平低溫等離子UV光解一體機(jī)|廢氣處理設(shè)備廠家低溫等離子體技術(shù)是近年發(fā)展起來的廢氣處理新技術(shù)，低溫等離子體處理廢氣的原理為：當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的放電電壓時，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解，以達(dá)到降解污染物的目的。　

低溫等離子體技術(shù)處理污染物的原理為：在外加電場的作用下，介質(zhì)放電產(chǎn)生的大量高能電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和激發(fā)，然后便引發(fā)了一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng)，使復(fù)雜大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)楹唵涡》肿影踩�物質(zhì)，或使有毒有害物質(zhì)轉(zhuǎn)變?yōu)闊o毒無害或低毒低害物質(zhì)，從而使污染物得以降解去除。因其電離后產(chǎn)生的電子平均能量在1eV～10eV，適當(dāng)控制反應(yīng)條件可以實現(xiàn)一般情況下難以實現(xiàn)或速度很慢的化學(xué)反應(yīng)變得十分快速。其能量傳遞過程為：

電場 電子　　　　　　高能電子

　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　受激電子

　　　　 高能電子 分子（或原子）　　　　　受激分子　　　活性基因
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 自由基因

　　　　 活性基因 分子（或原子）　　　　　　生成物 熱

　　　　 活性基因 活性基因　　　　　　生成物 熱

低溫等離子技術(shù)，屬于干法處理，不需要任何吸附劑、催化劑及其他任何助燃燃料，只需采用220V或380v交流電，經(jīng)振蕩升壓裝置獲得高頻脈沖電場，產(chǎn)生高能量電子，轟擊分解廢氣中的有機(jī)分子、有毒的氣體分子。具有等特點。

安平低溫等離子UV光解一體機(jī)|廢氣處理設(shè)備廠家UV光解除臭是什么的工作原理？一、惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風(fēng)管道排出室外。四、利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），再通過臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，徹底達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的． 二、UV光解除臭利用特制的高能高臭氧UV光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如：氨、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯的分子鍵，使呈游離狀態(tài)的單分子被臭氧氧化結(jié)合成小分子無害或低害的化合物，如CO2、H2O等。 三、利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧不穩(wěn)定需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。UV＋O2→O-+O＊(活性氧) O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機(jī)物具有極強(qiáng)的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有立竿見影的清除效果。